La pulvérisation cathodique industrielle / Manasterski, Christian

Public ISBD Titre : La pulvérisation cathodique industrielle Type de document : texte imprimé Auteurs : Manasterski, Christian, Auteur Editeur : Presses polytechniques Année de publication : 2005 Importance : 217 p Présentation : couv.ill Format : 24x16 cm ISBN/ISSN/EAN : 978-2-88074-624-7 Langues : Français (fre) Catégories : SEMI-CONDUCTEURS:02 Physique et chimie des matériaux semi-conducteurs Mots-clés : Pulvérisation cathodique : Applications industrielles Résumé : La pulvérisation cathodique est devenue aujourd'hui une technique incontournable de traitement des surfaces. Ce livre offre une approche pluridisciplinaire de cette technique, permettant ainsi de l'examiner sous plusieurs aspects : une approche scientifique simplifiée permettant d'expliquer et de comprendre les principaux phénomènes physiques liés aux conditions de vide; une approche technique sur les différents types de dépôts, sur le matériel nécessaire, son rôle, son fonctionnement, sa maintenance; et enfin une approche économique donnant des éléments comme le calcul des coûts, la mise en place d'une gestion de production, qui sont nécessaires à l'exploitation industrielle et à la rentabilisation financière de ces procédés. Insistant sur les aspects pratiques et pédagogiques, cet ouvrage intéressera un large public d'étudiants, de techniciens, d'ingénieurs et de chefs d'entreprise. Note de contenu : Préface Avant-propos Introduction générale Le vide Matériels et maintenance Les différents types de dépôts physiques La préparation des pièces Dépôt PVD : gammes et programmes Propriétés et contrôles des couches PVD Exploitation et productivité d'une unité PVD La pulvérisation cathodique industrielle [texte imprimé] / Manasterski, Christian, Auteur . - Presses polytechniques, 2005 . - 217 p : couv.ill ; 24x16 cm. ISBN : 978-2-88074-624-7 Langues : Français (fre) Catégories : SEMI-CONDUCTEURS:02 Physique et chimie des matériaux semi-conducteurs Mots-clés : Pulvérisation cathodique : Applications industrielles Résumé : La pulvérisation cathodique est devenue aujourd'hui une technique incontournable de traitement des surfaces. Ce livre offre une approche pluridisciplinaire de cette technique, permettant ainsi de l'examiner sous plusieurs aspects : une approche scientifique simplifiée permettant d'expliquer et de comprendre les principaux phénomènes physiques liés aux conditions de vide; une approche technique sur les différents types de dépôts, sur le matériel nécessaire, son rôle, son fonctionnement, sa maintenance; et enfin une approche économique donnant des éléments comme le calcul des coûts, la mise en place d'une gestion de production, qui sont nécessaires à l'exploitation industrielle et à la rentabilisation financière de ces procédés. Insistant sur les aspects pratiques et pédagogiques, cet ouvrage intéressera un large public d'étudiants, de techniciens, d'ingénieurs et de chefs d'entreprise. Note de contenu : Préface Avant-propos Introduction générale Le vide Matériels et maintenance Les différents types de dépôts physiques La préparation des pièces Dépôt PVD : gammes et programmes Propriétés et contrôles des couches PVD Exploitation et productivité d'une unité PVD

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Code-barres	numéro d'inventaire	Cote	Support	Localisation	Section	Disponibilité
164233	27-02-0042	Livre	Bibliothèque IGCMO	Documentaires	Disponible

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